掃描電鏡樣品導電膜的制備技術(shù)有哪些呢？樣品噴金有哪些特點呢？SEM掃描電鏡噴金工藝都有哪些?下面小編繼續(xù)為您介紹。

1、理想膜層的特點：

（1） 良好的導熱和導電性能。

（2）在3-4nm分辨率尺度內(nèi)不顯示其幾何形貌特點，避免引入不必要的人為圖像。 

（3）不管樣品的表面形貌如何，覆蓋在所有部位的膜層需要薄厚均勻。

（4）膜層對樣品明顯的化學成分有干擾，也不顯著的改變從樣品中發(fā)射的X射線強度。這層膜主要增加樣品表面的導電性能和導熱性能，導電金屬膜層的厚度普遍電位在1-10nm。

2、掃描電鏡噴金工藝 

在樣品表面形成薄膜有多種方法，對于SEM掃描電鏡和X射線顯微分析，只有熱蒸發(fā)和離子濺射鍍膜實用。

蒸發(fā)鍍膜：許多金屬和無機絕緣體在真空中被某種方法加熱，當溫升足夠高，蒸發(fā)氣壓達到1.3Pa以上時，就會迅速蒸發(fā)為單原子。

離子濺射鍍膜：高能離子或者中性原子撞擊某個靶材表面，把動量釋放給幾個納米范圍內(nèi)的原子，碰撞時某些靶材原子得到足夠的能量斷開與周圍原子的結(jié)合健，并且被移位。如果撞擊原子的力量足夠，就能把表面原子濺射出靶材。

一般用鎢絲籃作為電阻加熱裝置，把小于1毫米以下的金屬絲纏繞在在其表面。就像在白熾燈燈絲上，或者電爐的加熱絲上加上需要蒸發(fā)的金屬；也有用加熱坩堝，蒸發(fā)金屬粉末。

優(yōu)點：可提供碳和多種金屬的鍍層，鍍層精細均勻，適合非常粗糙的樣品，高分辨研究?？梢試娞迹ㄌ及艋蛱祭K），有利于對樣品中非碳元素的能譜分析。非導電樣品觀察背散射電子圖像，進行EBSD分析，也應該噴碳處理。

缺點：這種方法容易對樣品產(chǎn)生污染，蒸發(fā)溫度過高（例如碳的蒸發(fā)溫度為3500K)，會損傷熱敏感材料。

離子束濺射：氬氣態(tài)離子槍，發(fā)射的離子，被加速到1-30kev，經(jīng)過準直器或一個簡單的電子透鏡系統(tǒng)，聚焦形成撞擊靶材的離子束。高能離子撞擊靶材原子，原子以0-100ev的能量發(fā)射，這些原子沉積到樣品與靶材有視線的范圍內(nèi)的所有表面。可以實現(xiàn)1.0nm分辨率鍍膜。 

二極直流濺射：是簡單的一種。1-3kev

冷二極濺射：將二極直流濺射改進，用幾個裝置保持樣品在整個鍍膜過程中都是冷態(tài)?？朔O濺射的熱損傷問題。采用環(huán)形靶材代替盤形靶；在中間增加一個永磁鐵，并且在靶的周圍加上環(huán)形極靴，偏轉(zhuǎn)轟擊在樣品表面的電子。如果用一個小的帕爾貼效應的低溫臺，可以實現(xiàn)融點在30攝氏度的樣品鍍膜。